雙波段雷射（650 nm / 405 nm）高度量測，解析度最高 0.5 µm，可計算任意截面與多點高度差。
提供 650 nm 與 405 nm 兩個量測波段，搭配高精度 XY / Z 滑台與高效能 DSP 計算模組，單點量測最快 3 秒。量測結果可與 Office 相容格式儲存，並繪製成 3D 圖形供後續分析。
規格
| 量測波段 | 雙波段 650 nm / 405 nm |
|---|---|
| 405 nm 雷射 | 量測解析度 0.5 µm、量測精度 1 µm、WD = 0.5 mm |
| 650 nm 雷射 | 量測解析度 1 µm、量測精度 2 µm、WD = 1.65 mm |
| 單點量測時間 | 最快 3 秒 |
| XY 滑台 | 高精度，解析精度 0.5 µm |
| Z 向滑台 | 高精度，解析精度 0.5 µm |
| 運算模組 | 高效能 DSP |
| 設備尺寸 | 1000 × 1000 × 1800 mm |
應用情境
- 自動比對圖紋光罩與蝕刻後面積比
- 計算任意兩點或多點高度差（滑鼠點選即完成設定）
- 計算任何截面的高度資訊
- 以滑鼠規劃量測路徑，快速完成設定
- 資料儲存與 Office 相容，可快速分析並產生 3D 圖形